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刘向东院士也是很诧异：“你们决定自己做光刻机了？我了解了一下沪微的情况，他们对合作不热衷，原因是他们认为自己已经到了最后时刻，马上就能实现量产和交付，自己就能搞定。”
“不管什么原因吧，”纪弘也不纠结这些：“都不重要，重要的是，刘院士有没有兴趣到鼎佳来做个一个兼职？没什么要求，没事儿去看看就行。”
“这……”刘向东院士有些犹豫。
“我这几天一直在华东工厂，”纪弘说道：“我们利用灵犀重构了产线的光刻机系统并又花了生产工艺，将14nm工艺产线的良率提高到了97%！
“四重曝光5nm工艺，利用同样的技术预计也能够提升至65%以上。”
“你们重构了阿斯麦光刻机的整机控制系统？”
“嗯。”
“这……”得到了纪弘肯定回答的刘向东院士彻底惊了——这是什么概念？别人不知道他还能不清楚吗？
光刻机的硬件系统虽然复杂，但是一项项掰开来，其实还是能突破的。
不说28nm，就算是EUV光刻机，大部分的技术，国内都已经实现了相关的突破。
之所以光刻机的研发一直不成功，主要就是零部件太多了，一台EUV，大小零件几十万个。
这零部件一多，控制系统就会变得非常复杂，哪怕是极小的误差，在这种放大效应下，也会变得非常棘手。
这也是光刻机整机控制系统被称为光刻机的灵魂和大脑的原因之一。
