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的方法。”杨工程师也是认真的回复道:“就是把需要光刻的图分到多个掩膜版上,然后一遍一遍的重复光刻-刻蚀-光刻-刻蚀……就这样。”
“这……”这种方法于东当然知道,就是最原始的方法。
但是精度怎么控制啊?这东西在所有的工艺节点上,量产工艺,就没有做过双重以上的,最多就是双重。
理论倒是非常简单,但做起来那是非常的困难。
不仅是工件台的移动精度问题,有非常多的问题需要解决。
稍微对不准一点,一重一重的累积下来就会是天文数字,最终导致全盘都失败。
换句话说,你动一下都需要保持nm级别的精度,既然有这个技术,直接去改造光刻机都比这个更容易。
“来,看看我们的历程吧。”没等杨工回答,纪弘引着于东来看这几天产线在做什么。
“与传统提升工艺的过程不同,”纪弘介绍道:“类思维AI在这里发挥了巨大的作用。
“刻-刻蚀-光刻-刻蚀,也就是LELE这种双重曝光技术之所以引起套刻误差,不能四重甚至更多重的LELELELLE,是因为精度不好把握。
“但,对于我们来说,这反倒是最简单的。对准嘛,机械重复就好了,一次不行那就多来几次。”
这个过程困难吗?
对于一般的产线来说,非常困难。
因为误差有多少,不下产线去检测就不可能知道。
一次光刻之后,按程序移动,然后二次光刻,所有